Latest News and Trends 华为EUV光刻新专利公开 November 21, 2022 Posted by jeff 21 Nov 11月21日消息，华为在上周公布的新专利将应用于极紫外光刻技术 (EUV) ，对于未来光刻技术乃至于先进制程有着重要意义。具体来看，该新专利展示了一种《反射镜、光刻装置及其控制方法》，而这种方法便能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，在极紫外光的光刻装置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的。
